全息光刻技术
全息技术是利用光的干涉和衍射，来实现物光波的记录与再现的技术，再现时通过将物光波编码加载到空间光调制器上，接受光的照射进而衍射成像实现物光波的再现。
目前的光刻技术是基于几何光学的，需要尖端的光学器件制作能力。投影物镜是光刻机中最昂贵最复杂的部件之一，也是决定光刻机分辨率的关键。随着光刻分辨率和逃课精度的提高，投影物镜的像差和杂散光对成像质量的影响越来越突出。
本项目研究基于几何光学光刻技术的分辨率极限、造价昂贵、掩模版易损坏等问题，提出了基于波前衍射传播算法的图案生成技术。有望突破原光刻机中投影物镜的限制，特别对新型光源（比如FEL）光刻具有巨大潜力，是目前光刻研究的一个前沿方向。 此前与之相关的亚波长全息光刻（Sub-wavelength Holographic Lithography）技术被提出，该技术基于光波的衍射和干涉原理在光刻胶上形成图像，在保持高分辨率的同时降低光刻成本。本项目目前搭建起完备的实验系统，同时基于课题组在相关衍射成像方面的积累，已取得一定进展。此方法可能会使光刻机的体积、成本降低，突破原有技术壁垒，为今后光刻机发展提供一种技术上的可能性。
